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頭孢氨卡膠囊研磨分散機

簡(jian)要(yao)描(miao)述:GMD2000頭孢(bao)氨芐膠囊研磨分(fen)散機為立式分(fen)體結構,精密的零部(bu)(bu)件配合運轉平穩,運行(xing)(xing)噪音(yin)在73DB以(yi)下。同時采用德國博格曼(man)雙端面機械密封(feng),并(bing)通冷媒對密封(feng)部(bu)(bu)分(fen)進行(xing)(xing)冷卻,把泄露(lu)概率(lv)降到(dao)低,保證(zheng)機器連續24小時不停機運行(xing)(xing)。

產品型號:

所屬分類:醫藥級研磨分散機

更新時(shi)間:2024-03-06

詳細說明:

產品關鍵詞概述:頭孢氨芐膠囊研磨分散機,頭孢氨芐膠囊膠體磨,頭孢氨芐膠囊高速研磨機,頭孢氨芐分散機,頭孢氨芐膠囊濕法粉碎機,德國膠體磨,醫藥研磨分散機

頭孢氨芐(xia)膠囊(nang),適應(ying)癥為適用(yong)(yong)于敏(min)感(gan)菌所致(zhi)的(de)急(ji)性扁桃體(ti)炎(yan)、咽峽炎(yan)、中(zhong)耳(er)炎(yan)、鼻竇炎(yan)、支氣管炎(yan)、肺(fei)炎(yan)等呼吸道感(gan)染(ran)、尿路感(gan)染(ran)及皮膚軟(ruan)組(zu)織感(gan)染(ran)等。本品(pin)為口服制劑(ji),不宜用(yong)(yong)于重癥感(gan)染(ran)。

1.藥(yao)理:頭孢(bao)(bao)氨芐屬*代頭孢(bao)(bao)菌(jun)素,抗菌(jun)譜與(yu)頭孢(bao)(bao)噻吩相仿,但(dan)其抗菌(jun)活性(xing)較后者為差。除(chu)腸球(qiu)菌(jun)屬、甲氧西林(lin)耐藥(yao)葡(pu)萄球(qiu)菌(jun)外,肺炎鏈球菌、溶血性(xing)鏈球(qiu)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)、產或不產青(qing)霉(mei)素酶(mei)葡萄球(qiu)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)的大(da)部(bu)分菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)株(zhu)對本品(pin)敏感。本品(pin)對奈瑟菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)屬有較(jiao)好抗(kang)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)作用(yong)(yong),但流(liu)感嗜血桿(gan)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)對本品(pin)的敏感性(xing)較(jiao)差;本品(pin)對部(bu)分大(da)腸埃希(xi)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)、奇(qi)異變形(xing)桿(gan)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)、沙門菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)和志賀菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)有一定(ding)抗(kang)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)作用(yong)(yong)。其余腸桿(gan)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)科細菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)、不動桿(gan)菌(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)(jun)、銅綠假(jia)單(dan)胞菌、脆弱擬桿菌(jun)(jun)均(jun)對(dui)本品(pin)(pin)呈現(xian)耐(nai)藥。梭(suo)桿菌(jun)(jun)屬和韋容球(qiu)菌(jun)(jun)一般(ban)對(dui)本品(pin)(pin)敏感(gan),厭氧革蘭陽性球(qiu)菌(jun)(jun)對(dui)本品(pin)(pin)中度敏感(gan)。

2.毒理:頭孢(bao)氨芐(xia)的小鼠口(kou)服半數致(zhi)死量為2600mg/kg。

本品為口服制劑  的(de)要(yao)求根據分散相粒子大(da)小及分散情況的(de)不同(tong),將液體藥劑分為溶液型膠(jiao)體溶液(ye)型混懸液型乳(ru)濁液型四類。按(an)應用方法,液體(ti)藥劑可分為內服(fu)、外用和注射三大類。包(bao)括多種劑型,內服(fu)的如合劑、溶液劑等;外用的如(ru)洗劑、搽劑、含漱劑(ji)、滴鼻劑等(deng)等(deng)。

混懸劑中藥物微粒與分散介質之間存在著固液界面,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能,故處于不穩定狀態。尤其是疏水性藥物的混懸劑,存在更大的穩定性問題。這里主要討論混懸劑的物理穩定性問題,以及提高穩定性的措施。 
  

(一)混懸微粒的沉降 
  
混(hun)懸劑中的微(wei)粒由于受重(zhong)力作用,靜置后會自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律: 

  按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質密度差成正比,與分散介質的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大,混懸劑的動力學穩定性就愈小。 
  為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是***有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質的粘度,又減少微粒與分散介質之間的密度差,同時助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質之間的密度差,同時也增加混懸劑的粘度

 

GMD2000頭孢氨芐膠囊研磨分散機為立(li)式分體結構,精密的零部件配合(he)運(yun)轉平穩,運(yun)行噪音在73DB以(yi)下。同時采用德國博格曼雙端(duan)面機(ji)械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降(jiang)到低,保(bao)證機(ji)器連續(xu)24小時不停機(ji)運(yun)行。

GMD2000系列研磨分散(san)(san)機(ji)的結構:研磨式分散(san)(san)機(ji)是由錐體磨,分散(san)(san)機(ji)組合而(er)成(cheng)的高科技(ji)產品。

*級由(you)具有(you)精細度遞升的(de)三級鋸齒突起(qi)和凹槽。定子(zi)可以無限制的(de)被調整(zheng)到所需要的(de)與(yu)轉子(zi)之間的(de)距離(li)。在增強(qiang)的(de)流體湍(tuan)流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二(er)級由(you)轉(zhuan)(zhuan)定(ding)(ding)子(zi)組成。分散頭(tou)(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)設(she)計也(ye)很(hen)(hen)好地滿足(zu)不(bu)同(tong)粘(zhan)度的(de)(de)(de)(de)(de)物質(zhi)以(yi)及顆(ke)粒(li)(li)粒(li)(li)徑的(de)(de)(de)(de)(de)需要(yao)。在(zai)線(xian)式的(de)(de)(de)(de)(de)定(ding)(ding)子(zi)和(he)轉(zhuan)(zhuan)子(zi)(乳(ru)化頭(tou)(tou)(tou))和(he)批(pi)次(ci)式機器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)設(she)計的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同(tong)主要(yao)是因(yin)為 在(zai)對輸(shu)送性的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求方面,特別(bie)(bie)要(yao)引(yin)起注(zhu)意的(de)(de)(de)(de)(de)是:在(zai)粗精(jing)度、中等精(jing)度、細精(jing)度和(he)其他一些(xie)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)類型之(zhi)間(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)區別(bie)(bie)不(bu)光(guang)是轉(zhuan)(zhuan)子(zi)齒(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)排列,還(huan)有一個很(hen)(hen)重(zhong)要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)區別(bie)(bie)是 不(bu)同(tong)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)幾何學特征(zheng)不(bu)一樣。狹(xia)槽(cao)數(shu)、狹(xia)槽(cao)寬(kuan)度以(yi)及其他幾何學特征(zheng)都能(neng)改變定(ding)(ding)子(zi)和(he)轉(zhuan)(zhuan)子(zi)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同(tong)功能(neng)。根據以(yi)往的(de)(de)(de)(de)(de)慣(guan)例,依據以(yi)前的(de)(de)(de)(de)(de)經驗工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)來滿 足(zu)一個具體的(de)(de)(de)(de)(de)應用。在(zai)大多數(shu)情(qing)況(kuang)下,機器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)構造(zao)是和(he)具體應用相匹配的(de)(de)(de)(de)(de),因(yin)而它對制造(zao)出zui終產品是很(hen)(hen)重(zhong)要(yao)。當不(bu)確(que)定(ding)(ding)一種(zhong)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)構造(zao)是否滿足(zu)預期的(de)(de)(de)(de)(de)應用。

GMD2000系列是SGN(上(shang)海)公司經(jing)過(guo)(guo)研(yan)究剛(gang)剛(gang)研(yan)發出來的一(yi)款新型產品,該機特(te)別適合(he)于需要研(yan)磨(mo)分散(san)乳化(hua)(hua)(hua)均(jun)質一(yi)步到位的物(wu)料(liao)。我們(men)將三級(ji)(ji)高剪切均(jun)質乳化(hua)(hua)(hua)機進行改裝,我們(men)將三級(ji)(ji)變(bian)更為一(yi)級(ji)(ji),然后在(zai)乳化(hua)(hua)(hua)頭上(shang)面(mian)加配(pei)了膠體(ti)磨(mo)磨(mo)頭,使(shi)物(wu)料(liao)可以先(xian)經(jing)過(guo)(guo)膠體(ti)磨(mo)細(xi)化(hua)(hua)(hua)物(wu)料(liao),然后再經(jing)過(guo)(guo)乳化(hua)(hua)(hua)機將物(wu)料(liao)分散(san)乳化(hua)(hua)(hua)均(jun)質。膠體(ti)磨(mo)可根據(ju)物(wu)料(liao)要求進行更換(我們(men)提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五(wu)種乳化(hua)(hua)(hua)頭供客(ke)戶選擇(ze)) 

(價格電議:孫   公司有樣機可供客戶實驗!)

 

適用(yong)于制藥、食品(pin)、化工及其他行業的濕物料超微粉碎,能起(qi)到各種(zhong)半濕體及乳狀(zhuang)液物質的粉碎、乳化、均質和混合(he),主要技術指標已達到國外同類產品(pin)的先(xian)進水平。



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